Reactive ion etching of tantalum in silicon tetrachloride

العنوان Reactive ion etching of tantalum in silicon tetrachloride
السنة 2022
اسم المجلة Microelectronic Engineering
نوع المنشور بحث مجلة
بحث عالمي؟ 1
رابط البحث في المجلة https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0167931722000740?dgcid=author
هل البحث ضمن مستوعب كلارفيت 1
هل البحث ضمن مستوعب سكوبس 1
الملف (في حالة البحث open access( uploads/publications/1733899888.pdf
التدريسي اسعد كريم عيدان راضي المشعل
البريد الالكتروني asaad.edaan@uobasrah.edu.iq